第35章 人選2(第2頁)

 王麗沉思片刻，回答道：“我認為，當前光刻技術面臨的最大挑戰之一是光刻分辨率的提升。隨著集成電路的集成度越來越高，如何實現更精細的光刻圖案，以滿足更小的電路設計規則，是一個亟待解決的問題。此外，光刻過程中的曝光精度和重複性也是關鍵挑戰。”

 張華接過話頭：“對於未來的發展方向，我認為極紫外光刻（euv）技術是目前最被看好的解決方案之一。euv技術使用13.5納米波長的光，可以實現更精細的圖案化，這將推動光刻技術邁入新的階段。同時，納米壓印光刻等新興技術也是未來可能的方向。”

 趙強補充道：“除了技術上的創新，我認為，提高光刻機的生產效率和降低成本也是未來研究的重點。只有這樣，光刻技術才能更好地服務於半導體產業的快速發展。”

 面試官李博士聽完他們的回答，臉上露出了讚賞的笑容。“你們的回答非常全面和深入，展現了紮實的專業知識和對行業未來的深刻洞察。星圖公司非常需要像你們這樣有激情、有夢想、有創新精神的人才。”

 面試結束，三位學生走出面試室，心中充滿了激動和期待。他們知道，無論結果如何，這次面試都將成為他們職業生涯中寶貴的財富，激勵著他們在光科技的道路上不斷前行，追逐夢想。

 然而，就在選拔工作如火如荼進行之時，一位不速之客的到來打破了平靜。某位高層領導突然造訪星圖公司，意圖利用自己的影響力，為自己的親信開後門，要求星圖在選拔過程中給予特殊照顧。