第740章 秦總指導路線，從來沒錯過！(第2頁)

 這兩種技術路線，都有嚴重缺陷！

 波長越短的光，越容易被吸收！157納米的光源，會被大多數材料強烈吸收，以至於無法到達芯片上！只有二氟化鈣研磨的鏡頭可以勉強使用，但是這種材料做光學鏡頭，質量太差，壽命也短。

 至於euv光源，那就不用折射原理了，直接加反射鏡片，解決了透鏡吸收光源的問題，但是，這種光刻機屬於全新的產品，研發很難，而且，極紫外光的產生很困難，需要耗費大量的電力。

 兩種技術路線，都有很大的問題，接下來用什麼技術路線，非常關鍵！

 “嗯，我們開闢新的賽道。”秦川說道：“我們在arf光刻機的基礎上，鏡頭和光源之間加一層水，通過水的折射作用，把193納米光源降低到134納米。”

 什麼？

 徐教授驚呆了，倪老也驚呆了。

 這不是開玩笑嗎？在精密的光刻機鏡頭上，加一層水？

 萬一這層水要是漏了，豈不是會讓光刻機壞掉？萬一水裡有一個氣泡，豈不是會改變光線的路徑，從而導致整個硅片都報廢？

 193納米以下光源技術，困擾了整個光刻機行業很多年！

 尼康、佳能這些光刻機巨頭，堅定地走157納米光源道路，結果……技術路線錯誤，耗費巨資研製出來的157納米光刻機，沒得到一個訂單！這些巨頭也因此而衰落。

 後世大名鼎鼎的asml，就是因為押寶浸潤式光刻機，取得了圓滿成功，贏家通吃，徹底佔領光刻機市場！

 秦川不懂造芯片，但是基本的路線還是知道的。而且，他還知道其中一個關鍵人物：林本堅！

 林本堅，灣灣人，1970年從灣灣畢業之後，就去了俄亥俄州立大學讀研，老師就是光刻機領域裡的技術泰斗：帕特里克-懷特博士。在導師的帶領下，他們團隊研製出來了深紫外光源，從248納米進步到了193納米。

 林本堅畢業後，先加入了ibm公司，之後又在ibm旗下的領創公司工作，繼續搗鼓光刻機技術，當光刻機技術在193納米光源面前停滯不前的時候，他提出來了浸潤式技術，也就是把光源和鏡頭泡在水裡，從而將光源波長縮短。